Silicon Genesis lance le système de production PolyMax™

Par BusinessWire, publié le 02 septembre 2010 13:58

La société Silicon Genesis, un leader du traitement et de la technologie destinés à la technique des substrats, a annoncé aujourd’hui qu’elle avait commencé la production de tranches solaires à l’aide de son nouveau système de fabrication à grand volume PolyMax. Pour la première fois dans le secteur, SiGen a produit des tranches de silicium monocristallin sans trait de scie de 85μm d’épaisseur, et de 156 mm carrés. Le kerf est le matériau converti en sciure inhérent à tous les procédés de sciage. Cette réalisation constitue le premier vrai découpage en tranches mono c-Si sans trait de scie du secteur PV.

Avec l’introduction du système de fabrication à grand volume PolyMax, le secteur se rapproche de plus en plus du remplacement des procédés de scie à fil par une solution de découpage en tranches sans déchets moins coûteuse. Un des atouts clés du système PolyMax est sa capacité à produire des tranches plus minces que celles réalisées à l’aide de la technologie de scie à fil, ce qui permet au secteur de produire des cellules plus efficaces en termes de conversion et moins coûteuses.

« Nous estimons que l’avantage d’utiliser des tranches sans trait de scie va permettre au secteur PV d’atteindre une parité de réseau non subventionnée. Le lancement de notre système de fabrication à grand volume est une étape clé vers la réalisation de cet objectif, » a déclaré François Henley, président-directeur général de SiGen.

Invité à faire une présentation au 35èmeCongrès des spécialistes PV de l’IEEE, M. Henley a passé en revue les technologies de découpage en tranches de silicium cristallin sans trait de scie. SiGen va présenter le système de production PolyMax (2CV.1.53) lors de la prochaine 25èmeConférence et exposition européenne sur l’énergie solaire photovoltaïque (25ème EU PVSEC) à Valence, en Espagne.

À propos de SiGen

Silicon Genesis Corporation (SiGen)est un grand fournisseur de technologie de traitement des substrats techniquesdestinés aux marchés des semi-conducteurs, des affichages, de l’optoélectronique et du solaire.La technologie SiGen est utilisée dans la production des tranches de semi-conducteurs sur silicium sur isolant (SOI) destinés aux applications haute performance. SiGen développe des substrats innovants à l’aide d’une technique de film mince, validant de nouvelles applications et de nouveaux marchés pour ses clients.Les clients et partenaires de SiGen incluent certains des plus grands fournisseurs de substrats et de dispositifs du monde entier. Fondée en 1997, la société SiGen est installée à San Jose, en Californie.Pour de plus amples informations sur Silicon Genesis, veuillez consulterhttp://www.sigen.com

Photos/galerie multimédia disponibles :http://www.businesswire.com/cgi-bin/mmg.cgi?eid=6415938&lang=fr

Le texte du communiqué issu d’une traduction ne doit d’aucune manière être considéré comme officiel. La seule version du communiqué qui fasse foi est celle du communiqué dans sa langue d’origine. La traduction devra toujours être confrontée au texte source, qui fera jurisprudence.

Silicon Genesis
Alessandro Fujisaka, 408-228-5858
afujisaka@sigen.com


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